Sputteranlage Leica EM SCD500
Sputteranlage Leica EM SCD500
Die Sputteranlage wird zur Probenbeschichtung eingesetzt, etwa zur Vorbereitung von Messungen im Rasterelektronenmikroskop.
- Hochvakuum bis 10-5 mbar
- geeignet für Beschichtungen mit Metallen (z.B. Al, Cr, Co, Cu, Au, Au/Pd, Ir, Fe, Mo, Ni, Pt, Ag, Ti, W)
- in-situ Schichtdickenkontrolle über einen Schwingquarz
